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  • 改進(jìn)研發(fā)鈦合金件內(nèi)外雙靶材磁控濺射鍍鋁設(shè)備

    本文研究了鈦合金件內(nèi)外雙靶材磁控濺射鍍鋁設(shè)備的改進(jìn)。通過(guò)對(duì)現(xiàn)有設(shè)備的分析和問(wèn)題檢測(cè)，提出了改進(jìn)方案并進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證。結(jié)果表明，改進(jìn)后的設(shè)備可以更有效地實(shí)現(xiàn)鈦合金件的鍍鋁處理，提高鍍層的質(zhì)量和穩(wěn)定性。

    넶230 2023-04-25

  • 磁控濺射制備Ta-Cr非晶合金鍍層及其性能

    本文采用真空磁控濺射法，采用雙靶共濺射法，通過(guò)調(diào)節(jié)濺射功率制備了不同鉭含量的Ta-Cr二元非晶合金涂層，并對(duì)涂層的表觀形貌和物理性能進(jìn)行了研究。研究過(guò)。的特征。研究了鉭含量對(duì)涂層力學(xué)性能和耐腐蝕性能的影響。

    넶670 2023-03-20

  • 不銹鋼基片鍍ZnO薄膜的工藝與研究

    ZnO作為一種新型的光電材料，在光波導(dǎo)、半導(dǎo)體紫外激光器、發(fā)光器件、壓電傳感器和透明電極等方面有著廣泛的應(yīng)用本文綜述了在不銹鋼襯底上制備ZnO薄膜的方法和工藝......

    넶112 2023-03-03

  • 陶瓷靶材（氧化鋅鋁ZAO）制備及其薄膜性能研究

    研究了ZAO靶材與無(wú)氧銅的粘接性能、ZAO靶材與無(wú)氧銅的粘接性能。通過(guò)溶膠、凝膠方法制備的ZnO和Al2O3混合粉末經(jīng)冷壓預(yù)成型加真空低壓燒結(jié)，制備了高致密度(相對(duì)密度99％)、低成本的ZAO陶瓷靶材。用中頻交流磁控濺射ZAO靶材的工藝制備了ZAO薄膜。利用SEM掃描電鏡和XRD分析測(cè)試了陶瓷靶材斷口形貌以及靶材和薄膜的結(jié)構(gòu)。

    넶135 2023-01-29

  • 氧氣流量及燒結(jié)保溫時(shí)間對(duì) ITO 靶材的相含量與電阻率的影響

    采用注漿成型法在不同燒結(jié)參數(shù)下制備 lTO 靶材,研究不同氧氣流量及燒結(jié)保溫時(shí)間對(duì) lTO 靶材的相含量與電阻率的影響。 通過(guò) X 射線衍射(XRD)和掃描電鏡(SEM)對(duì) lTO 靶材的物相組成以及微觀組織形貌進(jìn)行表征,運(yùn)用 Rietveld 法對(duì)樣品 XRD 數(shù)據(jù)進(jìn)行結(jié)構(gòu)精修以計(jì)算其相含量。研究結(jié)果表明:靶材均由主相(ln2O3 相)以及第二相(ln4Sn3O12 相)組成。 當(dāng)氧氣流量由 40 L / min 提高到 160 L / min 時(shí),第二相含量由 19. 82%(質(zhì)量分?jǐn)?shù),下同)逐漸增加到 25. 83%;當(dāng)保溫時(shí)間由 6 h 延長(zhǎng)到 12 h 時(shí),第二相含量由 19. 79% 逐漸增加到 31. 27%。 對(duì)不同氧氣流量以及燒結(jié)保溫時(shí)間下所制備的樣品進(jìn)行相對(duì)密度以及電阻率測(cè)定,結(jié)果表明,靶材密度是影響其電阻率的最主要因素,靶材的電阻率隨著密度的增加而降低。靶材密度相近時(shí),靶材相含量對(duì)其電學(xué)性能有較大的影響,此時(shí)靶材的電阻率隨著第二相含量的增加而增大。

    넶461 2022-12-29